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海力士2006年4月啟用無錫半導體廠

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作者: 時間:2005-12-01 來源: 收藏
   與意法半導體合資興建的江蘇無錫半導體廠,將在明年4月著手量產(chǎn)。 

    韓國業(yè)界相關人員近日指出,據(jù)傳最快將在明年第一季底,最遲將在明年第二季初啟用無錫廠。無錫廠將以生產(chǎn)DRAM為主,NAND型閃存則將視市場需求彈性生產(chǎn)。 

    無錫廠區(qū)達16萬平方米,計劃投入2兆韓元以上興建一座八吋晶圓廠與一座12吋晶圓廠。明年4月將啟用的為8吋晶圓廠,將采用90納米制程月產(chǎn)4萬片(以八吋為基準)DRAM。


關鍵詞: 海力士

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